Chipy w procesie 1,4 nm za dekadę?

Prezentacja jednego z partnerów Intela podczas międzynarodowego spotkania przedstawicieli braży urządzeń elektronicznych IEEE (IEDM), ujawniła, że wiodący producent chipów ma plan osiągnięcia procesu litografii układów w chipach 1,4 nanometra do 2029 roku. Przedstawiciele firmy prezentującej „mapę drogową” miniaturyzacji układów Intela twierdzą, że sami zapoznali się z nią we wrześniu tego roku na konferencji.

Z prezentacji wynika, że Intel spodziewa się, że jego miniaturyzacja jego techniki litograficznej będzie postępować w cyklu dwuletnim, począwszy od 10 nm w 2019 r., następnie 7 nm w 2021 r., 5 nm w 2023 r., 3 nm w 2025 r., 2 nm w 2027 r. i 1,4 nm w 2029 r. Ta ostatnia wartość padła w publicznym wystąpieniu po raz pierwszy. Według ekspertów proces 1,4 nm oznacza szerokość równą dwunastu atomom krzemu.

Niedawno podczas corocznej konferencji organizowanej przez Credit Suise, Bob Swan, prezes Intela, mówił o planach swojego przedsiębiorstwa na najbliższe lata. Wspomniał o trudnościach z wprowadzeniem litografii 10 nm, ale również o planach na przyszłość. Zgodnie z jego słowami produkty w litografii 7 nm mają pojawić się na rynku pod koniec 2021 roku. Jest to więc zgodne z podawanym na IEDM cyklem.

Źródło:www.anandtech.com

Mirosław Usidus