Układ scalony o rozdzielczości 1 nm
Jak ogłosili naukowcy z Narodowego Laboratorium w Brookhaven w Stanach Zjednoczonych, udało im się wytworzyć rekordowo małą strukturę elektroniczną, o rozdzielczości ok. 1 nm. Są to jednak dopiero prototypowe litografie na podłożu z polimetakrylanu metylu (polexiglasu), często używanego jako alternatywa dla szkła. Dodatkowo wykorzystano także warstwy silseskwioksanu wodoru.
Wykorzystując skaningowy, elektronowy mikroskop transmisyjny o skorygowanej aberracji, badaczom udało się wykonać na materiale, o którym mowa, ścieżki o wielkości 1 nm, rozdzielone co 11 nm. W przypadku użycia silseskwioksanu najmniejsze wytworzone ścieżki miały 2 nm i oddalone były od siebie o 5 nm.
Rozdzielczość litografii wiązką elektronową o skorygowanej aberracji wynosi zazwyczaj ok. 10 nm, nie mniej. Aby poprawić ją i osiągnąć 1 nm, badacze stworzyli specjalny algorytm, sterujący trajektorią poruszania się wiązki po powierzchni. Została ona dodatkowo zmodyfikowana specjalnym, powolnym przebiegiem. Wykorzystując tę technikę, można manipulować pojedynczymi atomami.
Obraz ścieżek uzyskanych za pomocą elektronowego mikroskopu transmisyjnego o skorygowanej aberracji
